在2025年的年末,韩国嘻哈组合Epik High再次展现了他们的现场表演实力,成功举办了四场全场售罄的音乐会。这不仅标志着他们连续第三年在首尔举办个人演唱会,也进一步巩固了他们在年末音乐会上的地位,成为了众多粉丝心中的年度盛事。 从12月25日至28日,Epik High在首尔的Ticketlink Live Arena(前奥林匹克手球体育馆)举行了为期四天的“2025 Epik High Co ...
IT之家 12 月 15 日消息,ASML 首席执行官 Christophe Fouquet(克里斯托夫・富凯 / 傅恪礼)在公司总部接受彭博社专访时称,他预计 High NA EUV 光刻机将于 2027~2028 ...
【12 月 15 日阿斯麦宣布光刻改进方案获验证】阿斯麦克里斯托夫·富凯透露,公司为 High - NAEUV 设计的光刻改进方案已验证,成像效果佳、分辨率出色。目前正与客户合作,完善该光刻系统成熟度。 报道显示,阿斯麦将与客户密切配合,确保 High - NAEUV 明年实现停机时间最低的稳定运行。富凯预计,其将在 2027 至 2028 年间大规模量产。 本文由 AI 算法生成,仅作参考,不涉 ...
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Intel秀肌肉! 全球首发High-NA EUV曝光机到手,14A制程准备起飞啦!
半导体制程竞赛进入白热化阶段!Intel(英特尔)近日宣布,已在美国俄勒冈州的Fab D1X研发中心完成ASML最新曝光系统TWINSCAN EXE:5200B的安装 。这不仅是全球首套、也是目前最先进的“第二代”高数值孔径(High-NA)EUV曝光机,更被视为Intel 14A制程(相当于1.4纳米)能否如期量产的关键神兵利器 。
Since launching its high-speed rail service in 2008, China has built the world's largest high-speed railway network, ...
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英特尔安装首套二代High-NA EUV,将用于Intel 14A制程
2023年末,ASML向英特尔交货了首套High-NA EUV微影曝光设备,型号为TWINSCAN EXE:5000的系统。英特尔将其作为试验机,并于2024年在美国俄勒冈州的Fab ...
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